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閥門鑄鋼件的射線檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)及應(yīng)用是什么?

參考答案:

鑄鋼件的射線檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)中,國標(biāo)閥門采用多的是JB/T6440《閥門受壓鑄鋼件射線照相檢測(cè)》,美標(biāo)閥門采用多的是ASME B16.34《法蘭、螺紋和焊接端連接的閥門》。

■ 檢測(cè)技術(shù)等級(jí)

JB/T6440規(guī)定了檢測(cè)技術(shù)等級(jí),分為A級(jí)、AB級(jí)和B級(jí)。不同的技術(shù)等級(jí),其關(guān)于膠片類別、增感屏、放射源和高能X射線的透照厚度范圍、射線源到工件表面的小距離、曝光量、黑度、像質(zhì)計(jì)靈敏度的要求不相同。而ASME B16.34及ASTM E94沒有相關(guān)規(guī)定。

■ 膠片類別

JB/T6440規(guī)定,A級(jí)或AB級(jí)檢測(cè)技術(shù)低要求采用T3類膠片,B級(jí)檢測(cè)技術(shù)低要求采用T2類膠片。利用γ射線檢測(cè)裂紋敏感性大的材料時(shí),低要求采用T2類膠片。而ASME B16.34規(guī)定,膠片粒度要等于或細(xì)于ASTM E94中的2(II) 型。

■ 增感屏

JB/T6440詳細(xì)規(guī)定了不使用增感屏或使用金屬增感屏?xí)r不同能量的X射線和不同的放射源所對(duì)應(yīng)的增感屏材料和厚度。ASME B16.34沒有相關(guān)規(guī)定,ASME E94僅描述了前后鉛屏的作用,規(guī)定了γ射線檢測(cè)時(shí)前屏的小厚度,Ir192源為0.13mm,Co60源為0.25mm。

■ 透照厚度范圍

JB/T6440規(guī)定了常規(guī)X射線不同透照厚度時(shí)的高管電壓,及不同檢測(cè)技術(shù)等級(jí)采用γ射線源和不同能量的高能X射線適用的透照厚度范圍。ASME B16.34沒有相關(guān)規(guī)定,ASME E94僅描述了射線能量對(duì)成像質(zhì)量的影響,即一般情況下能量越低所獲得的圖像對(duì)比度越好。

■ 射線源到工件表面的小距離

JB/T6440通過規(guī)定射線源到工件表面的小距離來控制幾何不清晰度。不同檢測(cè)技術(shù)等級(jí),射線源到工件表面的小距離不同:

A級(jí)檢測(cè)技術(shù):f≥7.5dt2/3;AB級(jí)檢測(cè)技術(shù):f≥10dt2/3;B級(jí)檢測(cè)技術(shù):f≥15dt2/3;

式中:f—射線源至工件表面距離;d—有效焦點(diǎn)尺寸;t—透照厚度。

只要底片質(zhì)量符合標(biāo)準(zhǔn)要求,采用中心內(nèi)透法時(shí),f值可以減小,但減小值不得超過規(guī)定值的50%;采用偏心內(nèi)透法時(shí),f值可以減小,但減小值不得超過規(guī)定值的20%。

而ASME E94直接規(guī)定了幾何不清晰度,其公式為:Ug=Ft/Do;

式中:Ug—幾何不清晰度;F—有效焦點(diǎn)尺寸;t—工件射線源一側(cè)到膠片的距離;Do—射線源至工件表面距離。

■ 曝光量

JB/T6440規(guī)定,X射線照相,當(dāng)焦距為700mm時(shí)曝光量的推薦值為:A級(jí)和AB級(jí)檢測(cè)技術(shù)不小于15mA.min;B級(jí)檢測(cè)技術(shù)不小于20mA.min。采用γ射線透照時(shí),總的曝光時(shí)間不得少于輸送源往返所需時(shí)間的10倍。而ASME B16.34及ASTM E94沒有相關(guān)規(guī)定。

溫馨提示:以上內(nèi)容僅供參考使用,更多檢測(cè)需求請(qǐng)咨詢客服。

檢測(cè)流程步驟

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