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檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽：
標(biāo)準(zhǔn)簡介：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅片表面金屬沾污的全反射X 光熒光光譜測試方法,本方法使用單色X 光源全反射X 光熒光光譜的方法定量測定硅單晶拋光襯底表面層的元素面密度。本標(biāo)準(zhǔn)適用于N 型和P型硅單晶拋光片、外延片等鏡面拋光的硅片,尤其適用于清洗后硅片自然氧化層,或經(jīng)化學(xué)方法生長的氧化層中沾污元素的面密度測定。
標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 24578-2009
標(biāo)準(zhǔn)名稱：硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法
英文名稱：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
標(biāo)準(zhǔn)類型：國家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：作廢
發(fā)布日期：2009-10-30
實施日期：2010-06-01
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號（CCS）：冶金>>半金屬與半導(dǎo)體材料>>H80半金屬與半導(dǎo)體材料綜合
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號（ICS）：電氣工程>>29.045半導(dǎo)體材料
替代以下標(biāo)準(zhǔn)：被GB/T 24578-2015代替
起草單位：有研半導(dǎo)體材料股份有限公司、萬向硅峰電子有限公司
歸口單位：全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會
發(fā)布單位：國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.
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